고객지원
아래와 같이 홈페이지의 정상적인 운영을 저해하는 내용은
한국과학기술연구원 「홈페이지 관리 및 운영지침」에 따라 사전 예고없이 삭제하거나 답변하지 않을 수 있음을 알려드립니다.
제목 플라즈마 에칭 가능 여부 문의 드립니다
- 등록일 23-05-17
- 조회수 13938
- 작성자 김민성
-
첨부파일
안녕하세요, 자체 개발 중인 CVD 코팅된 샘플의 플라즈마 식각을 진행함으로써 타 소재 대비 CVD 코팅 샘플의 우수한 내식성을 나타내고자 합니다. 플라즈마 식각이 가능한 장비 탐색 중에 마이크로나노펩센터 보유 장비를 보고 문의 드립니다. 혹시 다음과 유사한 조건으로 분석이 가능한지 확인 요청드립니다. 해당 조건과 상이해도 무관합니다. 1. 샘플 크기 20 x 20 (크기별 가공 가능) 샘플 종류 : CVD-SiC, Sintered-SiC, Silicon, Quartz 등 세라믹 시편 2. 플라즈마 진행 전/후 무게 측정 무게 증감율에 따른 식각rata 비교 3. 플라즈마 진행 조건 1) 장치 : ICP Plasma Etcher 2) 조건 : Power 500~600W CF4 Gas : 100 sccm Ar Gas : 100 sccm O2 Gas : 10 sccm 3) 시간 : 60분 (300초 x 12회) x 2회, 총 120분 추가 확인이 필요한 사항은 언제든 회신 주시면 감사하겠습니다. mskim@worldexint.com
이전
다음